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PVD---多弧离子镀膜设备

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北京实力源科技开发有限责任公司
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未核验
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-
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公司地址:
马驹桥镇金桥科技产业基地景盛南二街35号

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产品规格:产品特性: 多弧离子镀膜设备具有沉积速度快,离化率高、离子能量大、膜层结合力好、设备操作简单、运行成本低、生产效率高。微米级厚度的硬质涂层可以有效的保护被镀产品的外观。低温镀膜工艺可以实现在多种材料上沉积,涂层工艺的多种组合可以制造出更多色彩。
产品详情
多弧离子镀膜设备具有沉积速度快,离化率高、离子能量大、膜层结合力好、设备操作简单、运行成本低、生产效率高。微米级厚度的硬质涂层可以有效的保护被镀产品的外观。低温镀膜工艺可以实现在多种材料上沉积,涂层工艺的多种组合可以制造出更多色彩。
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