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真空镀膜（纳米微米级）金属及合金膜层
一、膜层优势
膜层致密
可焊接性
均匀性好
结合力优
二、工艺参数
| 涂层 |
膜厚（微米） | 可达性能 | 主要应用 |
| Ti/Ni/Cr/Cu/Ag等 | 0.5-10 | 改善可焊性、提升电磁屏蔽能力、外观改色等 | 5G通讯、信息存储、铁磁材料等 |
三、应用领域
可用于液晶显示、硬质耐磨、太阳能电池、材料保护和防腐、建筑物玻璃、光学和装饰膜层、磁光信息存储、铁磁材料等。
注明：以上数据来源于安徽纯源镀膜科技有限公司-材料实验室-检测结果
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