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真空计是真空磁控溅射镀膜机器上有什么作用

真空计：真空计是真空磁控溅射镀膜机器上的重要组成部分，它是检测镀膜机真空度的重要手段。真空计根据其工作原理可以分为真空计和相对真空计，真空计可以直接测量压强的高低，相对真空计只能间接测量真空度。蒸发系统主要指成膜装置部分，镀膜机器的成膜装置很多，有电阻加热、电子枪蒸发、磁控溅射、射频溅射、离子镀等多种方式，鄙人就电阻加热和电子枪蒸发两种方式作介绍，因为此两种方式我应用的比较多。电子束蒸发的大优点在于：电子束的光斑可以随意调整，可以一枪多用，灯丝可以隐藏，避免污染，可以蒸发任意镀膜材料，维修方便，蒸发速度可以随意控制，材料分解小，膜密度高。机械强度好。成膜控制系统，薄膜监控目前应用方式比较多，主要有：目视监控法，定（极值）值监控、水晶振荡监控、时间监控等等。本人主要介绍目视监控、定（极值）监控和水晶振荡监控三种。目视监控也叫直接监控，就是采用眼睛监控，因为薄膜在生长的过程中，由于干涉现象会有颜色变化，我们就是根据颜色变化来控制膜厚度的，此种方式有一定的误差，不是很准确，需要依靠经验。

真空镀膜设备中频磁控溅射知识源分平衡和非平衡式，平衡式靶源镀膜均匀，非平衡式靶源镀膜膜层和基体结合力强。平衡靶源多用于半导体光学膜，非平衡多用于磨损装饰膜。不管平衡非平衡，若磁铁静止，其磁场特性决定一般靶材利用率小于30%。为增大靶材利用率，可采用旋转磁场。但旋转磁场需要旋转机构，溅射速率要减小。旋转磁场多用于大型或贵重靶。如半导体膜溅射。对于小型设备和一般工业设备，多用磁场静止靶源。用磁控靶源溅射金属和合金很容易，点火和溅射很方便。这是因为靶（阴极），等离子体，和被溅零件真空腔体可形成回路。但若溅射绝缘体如陶瓷则回路断了。于是人们采用高频电源，回路中加入很强的电容。这样在绝缘回路中靶材成了一个电容。

真空磁控溅射镀膜机镀铝时,会碰到哪些问题

真空磁控溅射镀膜机能镀各种物质和各式各样的膜层，比喻：镀金、镀银、镀钛等等，运用行业有装饰、五金、陶瓷、等等，运用非常广泛。还是有很多人，对真空磁控溅射镀膜机不是很了解，特别是刚进入这个行业的人，今天小编要为大家详细讲解真空磁控溅射镀膜机在镀铝的过程中，会经常碰到哪些问

真空磁控溅射镀膜机真空镀铝是在真空状态下，将铝金属加热熔融至蒸腾，铝原子凝结在高分子材料外表，构成极薄的铝层。真空镀铝请求基材外表润滑、平坦、厚度均匀;挺度和摩擦系数恰当;外表张力大于38Dyn/Cm2;热性能好，经得起蒸腾源的热辐射和冷凝热的效果;基材含水量低于0.1%。常用的镀铝基材有聚酯(PET)、聚(PP)、聚酰胺(PA)、聚乙烯(PE)、聚(PVC)等薄膜。