真空离子镀膜设备厂家 至成真空科技 离子镀膜设备
高频磁控溅射电源昂贵，溅射速率很小，接地技术很复杂，难大规模采用。为解决此问题，发明了磁控反应溅射。就是用金属靶，加入气体和反应气体如氮气或氧气。当金属靶材撞向零件时由于能量转化，与反应气体化合生成氮化物或氧化物。磁控反应溅射绝缘体看似容易,而实际操作困难。主要问题是反应不光发生在零件表面，也发生在阳极，真空腔体表面，以及靶源表面。从而引起灭火，靶源和工件表面起弧等。德国莱宝发明的孪生靶源技术，很好的解决了这个问题。其原理是一对靶源互相为阴阳极，从而消除阳极表面氧化或氮化。冷却是一切源（磁控，多弧，离子）所必需，因为能量很大一部分转为热量，若无冷却或冷却不足，这种热量将使靶源温度达一千度以上从而溶化整个靶源。
真空镀中对底涂层的要求：
①对镀件与镀膜层有良好的接触性能与较高的结合力，热膨胀系数相差小，不起反应，流平性能好。②具有良好的真空性能。底涂层固化后放气量少、热应力小、耐热性能好。③成膜性能好，涂层的致密度、覆盖能力、抗溶剂能力与耐光照能力等性能良好。④与面涂层有良好的相溶性。由于镀膜层极薄有孔隙，要求底涂层和面涂层的溶剂和稀释剂有良好的相溶性。⑤施涂性能良好。流平性能良好，有适当的黏度、固化时间短。真空镀对面涂层的要求：①与镀膜层要有良好的接触性能;②与底涂层要有一定的相溶性;③成膜性能与施涂性能优良;具有适当的机械强度;④防潮、抗溶剂、耐腐蚀性能好。抗老化性能强。由于产品的特殊需要，在面涂层上还可施涂超硬涂层或彩色涂层等。
用真空镀膜技术代替传统的电镀工艺有哪些优势
用真空镀膜技术代替传统的电镀工艺，不但能节省大量的膜材和降低能耗，还会消除湿法镀膜中所产生的环境污染。国外在钢铁零件涂镀防腐层和保护膜方面，已采用真空镀膜工艺来代替电镀工艺。在冶金工业中，为钢铁和带钢加镀铝防护层已很普遍；在机械制造业中，真空镀膜工艺用于改变改变某些加工工艺和节约贵重的原材料，如飞机涡轮发动机的叶片已经不用价格昂贵的耐高温金属制造，而是采用价格低廉易加工材料，成形后再用真空镀膜的方法在叶片表面上加镀耐高温，耐腐蚀的防护层。再如汽车制造业中采用塑料制品金属化零件代替各种金属零件，既减轻了汽车的重量又节约了燃油的消耗。在金属切削刀具上加镀TiN硬膜可使用刀具寿命提高3～6倍，从而节省了大量的高速钢材。塑料薄膜采用真空磁控溅射镀膜机镀膜的方法加镀铝等金属膜，再进行染色，可得到用于工业中的装饰品薄膜。
| 法人代表 | 东莞市至成真空科技有限公司 |
| 注册资本 | 100万 |
| 发证机关 | |
| 主营产品 | 至成真空科技 |
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| 公司简介 | 东莞市至成真空科技有限公司服务于中国真空制造业各领域,我公司是一家专业真空应用及设备研发制造的高科技企业。 本公司拥有一批真空行业资深专家、工程师及售后服务人员。致力于真空设备的研发设计和提供完善的真空设备解决方案及售后服务。严格要求生产及管理，确保研发制造的产品*、质优、可靠！务求先进的技术、优质的品质、专业周到的服务。 本公司所制造的真空设备已成功广泛应用到塑胶、工艺礼品、电子、玩具、鞋材、五金、陶瓷、饰品、汽车等行业。 |
