多功能真空镀膜机

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产品详细介绍

 

本设备是利用真空磁控溅射镀膜方式,可在硅片、陶瓷、玻璃、石英、Ⅲ-Ⅴ族化合物、金属等材料表面镀制各种金属、非金属、化合物薄膜材料。如Al、Au、Pt、Cr、Ti、Ni、Cu、NiCr、TiW、W、SiO、AlO、TaN、ITO、AZO等,沉积的薄膜具有良好的均匀性、附着力,设备具有溅射速率快、基片升温低、加热稳定等特点。
设备配置如下:
序号
项目
基本型
LOADLOCK
1
镀膜室尺寸
∮500
∮500
2
真空室数量
1
2
3
镀膜方向
上垂直安装阴极,向下溅射
上垂直安装阴极,向下溅射
4
阴极尺寸
∮50、∮100、∮160
∮50、∮100、∮160
5
阴极数量
2-6个
2-6个
6
真空系统
粗抽+分子泵组
粗抽+分子泵组
7
工艺气体路数
4路
4路
8
压力检测
MKS 1Torr
MKS 0.5Torr
9
极限真空度
8*10-5Pa
8*10-5Pa
10
镀膜电源
直流、中频、射频
直流、中频、射频
11
加热温度
Zui高350度
Zui高350度
12
膜层数量
单层-多层
单层-多层
13
膜层种类
金属膜、反应膜、绝缘膜
金属膜、反应膜、绝缘膜
14
样片尺寸
Zui大8寸
Zui大8寸
15
样片数量
单片为主
单片为主
16
溅射不均匀性
≤±5%
≤±3%
17
控制系统
PC+PLC
PC+PLC
18
控制方式
自动+手动
自动+手动
 
 
所属分类: /
2298375.htm
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所属分类:涂料橡塑 - 涂装设备 - 电镀设备
所属地区:广东省 - 深圳市