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陶瓷离子镀膜机离子镀膜机鼎益科技，鼎益真空

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产品详细介绍

卷绕式磁控镀膜机

卷绕式镀膜设备 - ITO膜卷绕式真空磁控镀膜机

设备特点：

ito薄膜是什么 :ITO薄膜的特性及用途

ITO薄膜是一种n型半导体材料，二手离子镀膜机，具有高的导电率、高的可见光透过率、高的机械硬度和良好的化学稳定性。详细为你说下ito薄膜是什么，ITO薄膜的特性及用途。

一、ito薄膜是什么

ITO薄膜是一种n型半导体材料，具有高的导电率、高的可见光透过率、高的机械硬度和良好的化学稳定性。它是液晶显示器（LCD）、等离子显示器（PDP）、电致发光显示器（EL/OLED）、触摸屏（TouchPanel）、太阳能电池以及其他电子仪表的透明电极常用的薄膜材料。

真空蒸发镀膜机加工

　　真空蒸发镀膜机设备运行过程中，从膜材表面蒸发的粒子以一定的速度在空间沿直线运动，直到与其他粒子碰撞为止。在真空室内，当气相中的粒子浓度和残余气体的压力足够低时，这些粒子从蒸发源到基片之间可以保持直线飞行，否则，就会产生碰撞而改变运动方向。为此，增加残余气体的平均自由程，以减少其与蒸发粒子的碰撞几率，离子镀膜机，把真空室内抽成高真空是必要的。

　　当真空容器内蒸发粒子的平均自由程大于蒸发源与基片的距离(以下称蒸距)时，五金离子镀膜机，就会获得充分的真空条件。设蒸距(蒸发源与基片的距离)为L，并把L看成是蒸发粒子已知的实际行程，λ为气体分子的平均自由程，设从蒸发源蒸发出来的蒸汽分子数为N0，在相距为L的蒸发源与基片之间发生碰撞而散射的蒸汽分子数为N1，假设蒸发粒子主要与残余气体的原子或分子碰撞而散射，陶瓷离子镀膜机，则有

　　N1/N0= 1- exp(L/λ) (1)

　　在室温(25℃)和气体压力为p(Pa)的条件下，残余气体分子的平均自由程为

　　λ = 6.65×10-1/pcm (2)

　　由上式计算可知，在室温下，p=10-2 Pa 时，λ=66.5 cm，即一个分子在与其它分子发生两次碰撞之间约飞行66.5cm。