离子镀膜设备 至成真空科技 东莞多弧离子镀膜设备

光学真空镀膜设备该如何进行保养

光学真空镀膜设备主要由真空镀膜机室、真空抽气机组限及电柜（控制电柜、电子枪电枢）组成，其广泛应用于微电子、光学成膜、民用装饰、表面工程等领域。光学真空镀膜设备在防止油污染和缩短工作周期等方面具有卓越的性能。

光学真空镀膜设备工作原理是在高真空状态下、利用电子束对金属或非金属材料加热到适当的温度，材料受热后蒸发成蒸汽分子。它的平均自由程比蒸发源至被蒸发基片距离大，蒸发出来的蒸汽分子向四处直射，碰到基片就沉积在基片表面形成腊层。

多弧离子PVD镀膜设备镀工艺及应用

离子镀基本工艺流程

①工件的预热．

一般的离子镀方法使用烘烤加热装置对工件进行加热，而热阴极离子镀则是利用等离子电子束轰击工件；电弧离子镀是利用金属离子轰击工件，对工件加热，达到预热的目的，有时电弧离子镀也采用辅助烘烤加热装置对工件进行预热。

②离子轰击溅射清洗．

一般离子镀的离子轰击溅射清洗是基片施加负偏压，利用辉光放电产生的Ar离子轰击基片，对基片进行离子轰击溅射清洗，而热阴极离子镀是利用等离子电子束轰击辅助阳级，Ar离子轰击基片进行离子轰击溅射清洗；电弧离子镀是利用金属离子轰击工件，对工件加热的对工件进行离子轰击溅射清洗。

③离子沉积.

不同的离子镀方法在离子沉积时，所使用的源和离化方法不同，具体的设备不同，沉积的膜层不同，其工艺程序和工艺参数也不同，应根据具体情况确定沉积的工艺程序和工艺参数，还应注意在整个沉积过程中保持工艺参数的稳定。

现在市面上有多功能离子真空镀膜机的出现，通过大量试验及工业化应用，本项目得出以下结论：

（1）所设计的多种镀膜技术复合的多功能离子镀膜机是成功的。

（2）该设备可大面积低成本制备表面光洁致密、平滑细腻，性能优异的类金刚石膜及金属氮（或碳）化物多元多层膜。

（3）采用特殊的多层梯度中间过渡层及掺杂技术，降低了内应力，提高了膜/基结合力，有利于膜层生长（Zui厚达6mm）。

（4）所制备DLC膜具有优异的综合性能：硬度>20GPa（高达37.25GPa），厚度可调（Zui厚达6mm），膜/基结合力>50N（高达100N），摩擦系数<0.2，膜层光洁细腻。

（5）所开发出的基体/Cr/CrN/CrTiAlN/CrTiAlCN/CrTiC/DLC多元多层耐磨耐热自润滑涂层具有良好的综合性能：硬度高达28.7GPa，厚度1-4mm可调，膜/基结合力大于70N，摩擦系数小于0.2。

（6）所研制的耐磨减摩膜已成功应用于多种高精密工模具以及精密关键部件上。应用结果表明：膜层的表面强化效果显著，可大幅度提高产品质量及使用寿命。